The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Boeken - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662496817 - 22 juni 2016
Indien omslag en titel niet overeenkomen, is de titel correct

Zhiqiang Li
The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses 1st ed. 2016 edition

Prijs
€ 52,49

Besteld in een afgelegen magazijn

Verwachte levering 31 dec. - 5 jan. 2026
Kerstcadeautjes kunnen tot en met 31 januari worden ingewisseld

Onze klanten zeggen:

14 dagen retourrecht in overeenstemming met de Europese consumentenbeschermingswetgeving
Topnotering op Trustpilot
Voeg toe aan uw iMusic-verlanglijst
of

Ook verkrijgbaar als:

73 pages, 3 black & white illustrations, 49 colour illustrations, biography

Media Boeken     Hardcover Book   (Boek met harde rug en kaft)
Vrijgegeven 22 juni 2016
ISBN13 9783662496817
Uitgevers Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Pagina's 59
Afmetingen 155 × 235 × 12 mm   ·   349 g
Taal en grammatica Duits  

Meer door Zhiqiang Li

Alles tonen

Bekijk alles van Zhiqiang Li ( bijv. Hardcover Book en Paperback Book )